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  ホーム >> 環境ニュースヘッドライン >> 「印刷でRDL形成」「SiCを高速加工」、後工程の注目技術3選

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link 日経クロステック-エネルギー 日経クロステック-エネルギー (2024/4/27 17:23:35)

feed 「印刷でRDL形成」「SiCを高速加工」、後工程の注目技術3選 (2024/1/25 5:00:00)
 半導体後工程への関心が急速に高まっている。2023年12月に開催された専門イベント「SEMICON Japan 2023」では、後工程に特化した展示フロア「APCS」の面積が前年の1.4倍に拡大するなど、新技術を求める動きが活発だ。本稿では、注目すべき3つの技術を取り上げる。


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